研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。 EVG101光刻膠勻膠機在單室設計上可以滿足研發工作，與EVG的自動化系統*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓，可配置為旋涂或噴涂和顯影。